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Wafer 下线的第一道步骤是形成 start oxide 和 zero layer? 其中 start oxide 的目的是为何? 1. 不希望有机成分的光刻胶直接碰触Si 表面; 2. 在laser 刻号过程中,亦可避免被产生的粉尘污染。 为何需要zero layer? 芯片的工艺由许多不同层次堆栈而成的,各个层次之间以zero layer当作对准的基准。 Laser Mark是什...
回答于 2018-11-08 11:30
回答于 2018-11-08 11:22
在讲Spacer的Process理论之前,先讲下Spacer的作用,为什么要有这么个结构?这样你们才能永远记住它。 我们这些80后做半导体PIE的一出道就接触的是1.0um以下,我们称之为亚微米制程(到0.25um以下,我们称之为深亚微米, deep sub-micron)。而我们在亚微米以及深亚微米时代随着栅极长度/沟道长度的减小,主要面对的技术难题...
回答于 2018-11-08 11:19